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J-GLOBAL ID:200903097821236265

ガス貯蔵装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 八田 幹雄 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002085032
Publication number (International publication number):2003278997
Application date: Mar. 26, 2002
Publication date: Oct. 02, 2003
Summary:
【要約】【課題】 従来のガス貯蔵装置と比較して格段に優れた特性を有するガス貯蔵装置を提供する。【解決手段】 貯蔵されるガスに関する吸脱着等温線がヒステリシスループを示す化合物を収納してなるガス貯蔵装置によって上記課題は解決される。
Claim (excerpt):
貯蔵されるガスに関する吸脱着等温線がヒステリシスループを示す化合物を耐圧容器内部に収納してなるガス貯蔵装置。
IPC (3):
F17C 11/00 ,  C10L 3/06 ,  C07F 1/08
FI (3):
F17C 11/00 A ,  C07F 1/08 C ,  C10L 3/00 A
F-Term (5):
3E072EA01 ,  4H048AA01 ,  4H048AB83 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
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