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J-GLOBAL ID:200903097831319509

ペリレン-3、4-ジカルボン酸無水物の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岡部 正夫 (外11名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998005226
Publication number (International publication number):1998204076
Application date: Jan. 14, 1998
Publication date: Aug. 04, 1998
Summary:
【要約】下記の一般式I【化7】のペリレン-3、4-ジカルボン酸無水物の製造方法において、下記式II【化8】のペリレン-3、4-ジカルボキシイミドを(a)第一工程において塩基で処理し、(b)第二工程において、上記により生成された陰イオンをアルキル化剤R7-Xと反応させて対応するカルボキシイミドを生成させ(ここにおいて、Xはハロゲンであり、そしてR7は置換されていないか、またはフェニル置換C1-C20アルキルである)そして(c)第三工程において、そのアルキル化カルボキシイミドを最初に塩基で処理し、そして、塩基で処理した後、反応混合物を酸性化することによって式Iのペリレン-3、4-ジカルボン酸無水物を得ることを特徴とする方法を提供する。さらに、新規なペリレン-3、4-ジカルボン酸無水物、新規なN-アルキルペリレン-3、4-ジカルボン酸イミド、および本発明の方法によって製造された化合物の利用可能性を開示している。
Claim (excerpt):
下記の一般式I【化1】[式中、R1、R2、R3およびR4は互いに独立的に水素、ハロゲン、C1-C20アルキル、C3-C14シクロアルキル、C1-C20アルコキシ、フェニル,フェニルオキシまたはフェニルチオ(ここにおいて、それぞれのフェニルは、ハロゲン、C1-C20アルキル、C3-C14シクロアルキルおよび/またはC1-C20アルコキシによってモノ置換または多置換されることができる);-NR52 または-OR5(ここにおいて、R5は水素またはC1-C20アルキルである)であるか、または6、7-位置または1、12-位置におけるペアR1/R2およびR3/R4の1つは、-O-、-S-、S=O、SO2 または-NR6の架橋原子または架橋原子群を有する架橋である(ここにおいて、R6は水素、C1-C20アルキルまたはC3-C14シクロアルキルである)]のペリレン-3、4-ジカルボン酸無水物の製造方法において、下記式II【化2】のペリレン-3、4-ジカルボキシイミドを(a)第一工程において塩基で処理し、(b)第二工程において、上記により生成された陰イオンを、アルキル化剤R7-X(ここにおいて、Xはハロゲンであり、そしてR7は置換されていないか、またはフェニル置換C1-C20アルキルである)と反応させて対応するカルボキシイミドを生成させ、そして(c)第三工程において、そのアルキル化カルボキシイミドを最初に塩基で処理し、そして、塩基で処理した後、反応混合物を酸性化することによって式Iのペリレン-3、4-ジカルボン酸無水物を得ることを特徴とする方法。
IPC (4):
C07D311/78 ,  C07C 51/00 ,  C07D221/18 ,  C09D 11/00
FI (4):
C07D311/78 ,  C07C 51/00 ,  C07D221/18 ,  C09D 11/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
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