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J-GLOBAL ID：200903097900475933

超微粒子構造の作製方法

Inventor： 小宮山 宏 ,  白川 宏昭 ,  大沢 利男
Applicant, Patent owner： 東京大学長
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998303944
Publication number (International publication number)：2000133794
Application date： Oct. 26, 1998
Publication date： May. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】 数nmスケ-ルの極微細な粒子から構成される超微粒子構造を作製する方法を提供する。【解決手段】 基板1上に、堆積させるべき物質と濡れ性の低い物質からなる薄膜2を形成する。次いで、この薄膜2に堆積させるべき物質と濡れ性の高い開口部3を形成した後、前記堆積させるべき物質にスパッタリングなどを施して基板1上に、堆積させるべき物質粒子4を堆積させる。すると、物質粒子4は薄膜2の表面2A上をマイグレートし、エネルギー的に安定な開口部3に落ち込んで集積し、衝突結合してなる極微細粒子5を形成する。

Claim (excerpt)：

基板上に物質を堆積させて、前記基板上に極微細な粒子からなる超微粒子構造を作製する方法であって、前記基板の表面に堆積させるべき前記物質に対して濡れ性の低い部分と高い部分とを形成し、前記堆積させるべき物質を前記基板上に堆積させた後、前記濡れ性の高い部分に集積させて、前記極微細な粒子からなる超微粒子構造を作製することを特徴とする、超微粒子構造の作製方法。

IPC (4)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205

FI (5)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/203 M ,  H01L 21/205

F-Term (28)：

5F045AA19 ,  5F045AB02 ,  5F045AB10 ,  5F045AB12 ,  5F045AB14 ,  5F045AB22 ,  5F045AB32 ,  5F045AB40 ,  5F045AD09 ,  5F045AF04 ,  5F045AF07 ,  5F045AF09 ,  5F045AF10 ,  5F045BB09 ,  5F045DA56 ,  5F045HA12 ,  5F052KA05 ,  5F103AA08 ,  5F103DD03 ,  5F103DD11 ,  5F103DD16 ,  5F103DD27 ,  5F103DD28 ,  5F103DD30 ,  5F103HH03 ,  5F103HH04 ,  5F103HH07 ,  5F103LL17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 微粒子の規則的配列方法および光記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-084535   Applicant：株式会社リコー
• 微小金属ドットの製造方法および微小金属ドット製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-018910   Applicant：株式会社東芝
• レーヤードアルミニウム微粒子の生成法及びその応用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-074604   Applicant：工業技術院長