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J-GLOBAL ID:200903098151949377
処理時間の設定方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997141558
Publication number (International publication number):1998335415
Application date: May. 30, 1997
Publication date: Dec. 18, 1998
Summary:
【要約】【課題】 簡易な方法でタクト搬送を可能にし、かつ、基板処理装置のスループットを向上させること。【解決手段】 ステップS1で、基板のウエハフロー等を入力し、搬送ロボットTR1,TR2の動作ルーチンの詳細等を決定する。ステップS2で、与えられたウエハフローを複数のフローグループに分離する。ステップS3で、各フローグループFGkごとに搬送所要時間ATR(k)を求める。ステップS4で、各フローグループFGkの各処理ユニットUknごとに処理所要時間UCT(n)を求める。ステップS5で、ステップS3で求めた搬送所要時間ATR(k)とステップS4で求めた各処理所要時間UCT(n)とを比較して最大値を求め、この最大値を最短サイクルタイムGCTkとし、フローグループFGkの最短サイクルタイムGCTkを比較してそのうち最も大きなものを基板処理装置全体としてのタクトタイムとする。ステップS6で、ステップS1で与えられた条件のほか、ステップS2〜S5で求めたタクトタイムに基づいて、基板に予め定められた諸処理を順次施す。
Claim (excerpt):
基板を処理する複数の処理ユニット間で搬送機構により基板の循環搬送を行うことにより、基板に所定手順の一連の処理を行う基板処理装置における処理時間の設定方法であって、前記搬送機構が前記所定手順に含まれる各処理ユニットにアクセスして基板の交換を行いつつ一回の循環搬送を行うための搬送所要時間と、前記所定手順に含まれる各処理ユニットのそれぞれの処理に要する各処理所要時間と、のうちの最大値である最大所要時間を求める第1の工程と、前記最大所要時間に基づいて、前記搬送機構の循環搬送の周期を決定する第2の工程と、を備えることを特徴とする処理時間の設定方法。
IPC (3):
H01L 21/68
, H01L 21/02
, H01L 21/027
FI (3):
H01L 21/68 A
, H01L 21/02 Z
, H01L 21/30 561
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開平4-113612
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半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-153572
Applicant:富士通株式会社
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処理方法、レジスト処理方法及びレジスト処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-023074
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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基板処理装置における基板の搬送方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-168604
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-353312
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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