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J-GLOBAL ID：200903098173171744

多孔質ナノコンポジット薄膜及びその形成方法

Inventor： 横塚 俊亮 ,  鶴岡 薫
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002155795
Publication number (International publication number)：2003342411
Application date： May. 29, 2002
Publication date： Dec. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】比誘電率が低く、かつ機械特性、耐プラズマ性、耐薬品性に優れる多孔質の薄膜を提供すること。【解決手段】シリカ(A)の前駆体、耐熱性有機ポリマー(B)、薄膜形成後に除去可能な成分(C)及び溶剤を含有する組成物から薄膜を形成し、その後前記成分(C)を除去することにより、平均孔径が10nm以下の多孔質であることを特徴とする多孔質ナノコンポジット薄膜を得る。

Claim (excerpt)：

シリカ(A)及び耐熱性有機ポリマー(B)を含有し、かつ、平均孔径が10nm以下の多孔質であることを特徴とする多孔質ナノコンポジット薄膜。

IPC (3)：

C08J 9/28 CEZ ,  C08K 3/36 ,  C08L101/00

FI (3)：

C08J 9/28 CEZ ,  C08K 3/36 ,  C08L101/00

F-Term (15)：

4F074AA56 ,  4F074AA77 ,  4F074AC32 ,  4F074AD01 ,  4F074AD04 ,  4F074AD11 ,  4F074AG01 ,  4F074AG20 ,  4F074CB31 ,  4F074CB37 ,  4J002CE001 ,  4J002CH071 ,  4J002DJ016 ,  4J002FD01 ,  4J002GQ01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 膜形成用組成物、膜の製造方法および多孔質膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-289476   Applicant：ジェイエスアール株式会社