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J-GLOBAL ID:200903098404241350

浸炭処理方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 彰司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001169635
Publication number (International publication number):2002363726
Application date: Jun. 05, 2001
Publication date: Dec. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】 浸炭リードタイムを短縮でき、経済的であり、また、減圧下における炉内雰囲気のカーボンポテンシャル制御が可能であり、したがって、炭化水素系ガスの直接分解による炭素の鋼材料への侵入を制限して煤の発生を防止することができ、適正な値の浸炭処理層を得ることができる浸炭処理方法を提供する。【解決手段】 減圧下に保持された炉内に、炭化水素系ガスと酸化性ガスを供給しながら浸炭を行う浸炭処理方法であり、好ましくは、炉内圧力が0.1〜101kPaであり、使用される炭化水素系ガスがC3 H8 、C3 H6 、C4H10、C2 H2 、C2 H4 、C2 H6 、CH4 ガスのうちの1種又は2種以上であり、使用される酸化性ガスが空気、O2 ガス、あるいはCO2 ガスである浸炭処理方法。
Claim (excerpt):
減圧下に保持された炉内に、炭化水素系ガスと酸化性ガスを供給しながら浸炭を行うことを特徴とする浸炭処理方法。
IPC (3):
C23C 8/22 ,  C21D 1/06 ,  C23C 8/28
FI (3):
C23C 8/22 ,  C21D 1/06 A ,  C23C 8/28
F-Term (3):
4K028AA01 ,  4K028AC03 ,  4K028AC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 特開昭57-016164
  • 特開昭57-016164
  • 熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-048598   Applicant:同和鉱業株式会社
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