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J-GLOBAL ID：200903098456874300
フォトマスク及びフォトマスクの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996156675
Publication number (International publication number)：1998003162
Application date： Jun. 18, 1996
Publication date： Jan. 06, 1998
Summary：
【要約】【課題】 良好な微細パターンの形成が可能であり且つ耐久性の向上したフォトマスク、及び、透過率および位相差の制御性が向上した該フォトマスクの製造方法を提供する。【解決手段】 ガラス基板上に、エキシマ露光光源からの発振光に対して半透明な単層あるいは多層構造の位相シフト膜を有するフォトマスクであって、該位相シフト膜の表面に、露光中に発生するオゾンに対して化学的に安定な保護膜を有するフォトマスク。
Claim (excerpt)：
透明基板上に、エキシマ露光光源からの発振光に対して半透明な単層あるいは多層構造の位相シフト膜を有するフォトマスクであって、少なくとも該位相シフト膜の表面に、露光中に発生するオゾンに対して化学的に安定な保護膜を有することを特徴とするフォトマスク。
IPC (3)：
G03F 1/08
, G03F 1/14
, H01L 21/027
G03F 1/08 A
, G03F 1/14 E
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
