Pat
J-GLOBAL ID:200903098508886204
気体溶解装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001158411
Publication number (International publication number):2002346351
Application date: May. 28, 2001
Publication date: Dec. 03, 2002
Summary:
【要約】【課題】 多くの気体を溶解させることが可能で、水位調整のための気体圧力調整が容易でかつ、効果的な水質浄化が可能な気体溶解装置を提供する。【解決手段】 密閉タンクに液体を供給する液体供給手段と、密閉タンク内に気体を供給する気体供給手段と、密閉タンク内に設けられた邪魔板とからなり、邪魔板を液体供給手段から供給される液体に衝突するように配置し、また、気体供給手段からの気体を密閉タンク内に供給するとともに、密閉タンク内の空間の気体をポンプの吸引側、吐出側又はラインミキサ等に導いて密閉タンク内に放出するように構成した。また、水質汚濁物質を凝集させる凝集剤や汚濁物質を分解できる微生物を混入させたり、汚濁物質を分解・殺菌するための手段を設けた。
Claim (excerpt):
密閉タンクに液体を供給する液体供給手段と、気体を供給する気体供給手段と、前記密閉タンク内に設けられた邪魔板とからなり、前記邪魔板を前記液体供給手段から供給される液体に衝突するように配置したことを特徴とする気体溶解装置。
IPC (13):
B01F 1/00
, B01F 3/04
, B01F 5/02
, C02F 1/50 510
, C02F 1/50 520
, C02F 1/50 531
, C02F 1/50
, C02F 1/50 540
, C02F 1/50 550
, C02F 1/50 560
, C02F 1/52
, C02F 3/00
, C02F 3/24
FI (15):
B01F 1/00 A
, B01F 3/04 Z
, B01F 5/02 A
, C02F 1/50 510 A
, C02F 1/50 520 B
, C02F 1/50 531 C
, C02F 1/50 531 R
, C02F 1/50 540 A
, C02F 1/50 540 B
, C02F 1/50 550 H
, C02F 1/50 560 C
, C02F 1/50 560 H
, C02F 1/52 Z
, C02F 3/00 D
, C02F 3/24 B
F-Term (18):
4D015BA19
, 4D015BA21
, 4D015CA14
, 4D015FA02
, 4D015FA23
, 4D015FA24
, 4D015FA26
, 4D027BA05
, 4D027BA06
, 4D029AA11
, 4D029BB11
, 4G035AA01
, 4G035AB04
, 4G035AC15
, 4G035AC16
, 4G035AC29
, 4G035AC55
, 4G035AE13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
液状物への不活性ガス溶解装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-174474
Applicant:有限会社ヤマヱ
-
特公昭54-002695
-
スタティックミキサー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-143514
Applicant:杉浦彦六
-
加圧式オゾン処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-031689
Applicant:株式会社日立製作所
-
特表平7-509181
Show all
Return to Previous Page