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J-GLOBAL ID：200903098551801778

電子光学系の三次球面収差の補正時に一次、二次および三次光軸の像の変形を除去する方法

Inventor： ハイダー マキシミリアン ,  ウヘレマン ステハン
Applicant, Patent owner： ツェーエーオーエス コレクテッド エレクトロン オプチカル システムズ ゲーエムベーハー
Agent (1)： 飯田 幸郷 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000511180
Publication number (International publication number)：2001516139
Application date： Aug. 29, 1998
Publication date： Sep. 25, 2001
Summary：

【要約】この発明は電子光学系の像の変形αnを除去する方法に関する。その方法は、αnについて同一の作用をする、次数n+mの軸外の像の変形αnγmを、光軸の像の変形の補償が終了まで光軸の方向にビーム通路を移動または傾斜して補正することによって行う。さらに、六極子を備える電子光学系の三次光軸の像の変形を補正して、一次、二次及び三次光軸の像の変形を補正する。 -図3-

Claim (excerpt)：

ビームの角度を光軸より測定するものとし、その量と偏角とを複素数αに組合わせて、nを像の変形の次数を示すものとしたとき、αnについて同一の作用をする、次数n+mの軸外の像の変形、すなわちγを像の座標の両部分の複素数とを、光軸の像の変形の補償が終了まで光軸の方向にビーム通路を移動または傾斜して補正するαnまたはαNαn-Nに比例する像の変形を除去する方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-295140
  
• 非点・入射軸補正装置を備えた電子顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-010085   Applicant：日本電子株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• Coma-free alignment of high resolution electron microscopes with the aid of optical diffractograms
• 5.11 軸非対称性による寄生収差、 15.4 高次収差と寄生収差の計算
• Effect of three-fold astigmatism on high resolution electron micrographs
• Aberration correction in a low voltage SEM by a multipole corrector