Pat
J-GLOBAL ID:200903098660155240

自己組織化単分子膜(Self-AssembledMonolayers)の形成

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 上柳 雅誉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001370544
Publication number (International publication number):2002327283
Application date: Dec. 04, 2001
Publication date: Nov. 15, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 基板上に自己組織化単分子膜(SAM)を形成する方法およびこの種の単分子膜を含む製品を提供する。【解決手段】 半フッ化硫黄含有化合物、または半フッ化シラン誘導体および溶媒として圧縮二酸化炭素(CO2)を用いて自己組織化単分子膜(SAM)をつくる。形成中に、圧縮CO2の温度および/または圧力を変えて、単分子膜の分子充填密度を改良する。溶媒として圧縮(compressed)CO2を用いることにより、環境に対して好ましくない溶媒を用いることなく、分子充填密度の優れた単分子膜を比較的迅速につくることができる。
Claim (excerpt):
基板上に物質の自己組織化単分子膜(Self-Assembled Monolayers)を形成する方法であって、前記物質の溶媒として圧縮二酸化炭素(compressedcarbon dioxide)を用い前記基板上に前記物質を堆積する方法。
IPC (4):
C23C 26/00 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  B41J 2/16
FI (4):
C23C 26/00 A ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  B41J 3/04 103 H
F-Term (15):
2C057AF70 ,  2C057AG68 ,  2C057AP60 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K044AA02 ,  4K044AA13 ,  4K044AB10 ,  4K044BA21 ,  4K044BB01 ,  4K044BC02 ,  4K044CA16 ,  4K044CA53 ,  4K044CA60
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page