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J-GLOBAL ID：200903098671860948

最大被還元温度の低い、酸化ジルコニウム及び酸化セリウムベースの組成物、その製造方法並びに触媒としてのその使用

Inventor：
オリヴィエ ラルシェ

About オリヴィエ ラルシェ

, 
エマニュエル ロアル

About エマニュエル ロアル


Applicant, Patent owner：
ロディア エレクトロニクス アンド カタリシス

About ロディア エレクトロニクス アンド カタリシス


Agent (4)： 倉内 基弘 ,  遠藤 朱砂 ,  吉田 匠 ,  中島 拓
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2005518715
Publication number (International publication number)：2006513973
Application date： Mar. 17, 2004
Publication date： Apr. 27, 2006
Summary：
本発明は、少なくとも50重量%の酸化ジルコニウム割合の、酸化ジルコニウム及び酸化セリウムを含有する組成物であり、6時間500°Cで焼成後の最大被還元能力温度は500°C以下、比表面積は40m2/g以上であり、正方晶系相の形である組成物に関する。上記組成物は;ジルコニウム化合物及びセリウム化合物の混合物を沈殿させ;得られた沈殿物を含む溶媒を加熱し;陰イオン界面活性剤、非イオン界面活性剤、ポリエチレングリコール、カルボン酸及びその塩、並びにカルボキシメチル化脂肪族アルコールエトキシレートタイプの界面活性剤から選ばれる添加剤を、前記ステップから得られた媒体中へ、又は分離した沈殿物へ加え;沈殿物を次に粉砕してその沈殿物を焼成して得られる。本発明の組成物は触媒として使用できる。
Claim (excerpt)：
少なくとも50重量%の酸化ジルコニウム割合の、酸化ジルコニウム及び酸化セリウムを含有する組成物であり、6時間500°Cで焼成後の最大被還元能力温度は500°C以下、比表面積は40m2/g以上であり、正方晶系相の形である組成物。
IPC (5)：
C01G 25/00 ,  B01J 23/10 ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/28
FI (8)：
C01G25/00 ,  B01J23/10 A ,  B01D53/36 104B ,  B01D53/36 104A ,  B01D53/36 102B ,  F01N3/10 A ,  F01N3/28 301C ,  F01N3/28 301P
F-Term (54)：
3G091AB02 ,  3G091AB04 ,  3G091BA01 ,  3G091BA39 ,  3G091GB02W ,  3G091GB03W ,  3G091GB04W ,  4D048AA06 ,  4D048AA14 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048BA08X ,  4D048BA18X ,  4D048BA19X ,  4D048EA04 ,  4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AB06 ,  4G048AC08 ,  4G048AD06 ,  4G048AE07 ,  4G169AA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA12 ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC41A ,  4G169BC42A ,  4G169BC42B ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC44A ,  4G169BC44B ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169CA18 ,  4G169EA01X ,  4G169EA19 ,  4G169EC02X ,  4G169EC02Y ,  4G169EC03X ,  4G169EC04X ,  4G169EC05X ,  4G169EC22X ,  4G169EC22Y ,  4G169FA01 ,  4G169FB09 ,  4G169FB30 ,  4G169FC07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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