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J-GLOBAL ID:200903098774651433

電子線露光装置及びレジスト塗布現像装置並びにレジストパターン形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997071136
Publication number (International publication number):1998270316
Application date: Mar. 25, 1997
Publication date: Oct. 09, 1998
Summary:
【要約】【課題】 レジスト塗布から露光までの時間を最小、かつ、どのウェハでも同一として、レジストパターン寸法を一定にする。【解決手段】 電子線露光装置1は、入力装置11がパターンデータファイル14からパターンデータ及び各種パラメータを選択し、これを処理時間計算手段12にて計算する機能を有する。ウェハのやり取りのみならず、処理時間計算手段12によって得られた処理時間をレジスト塗布現像装置2に送るべく、処理時間計算手段12には処理時間のデータ転送手段13を接続している。レジスト塗布現像装置2は、データ受け取り手段21を有し、処理時間記憶ファイル22への書き換えを可能にしている。
Claim (excerpt):
パターンデータ、チップレイアウト、露光量及びアライメント条件から、ウェハ1枚当たりの処理に要する時間を計算する機能を有することを特徴とする電子線露光装置。
IPC (5):
H01L 21/027 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68
FI (7):
H01L 21/30 541 Z ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 H ,  H01L 21/30 569 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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