基板処理装置および基板処理方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：吉田茂明 , 吉竹英俊 , 有田貴弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006261994
Publication number (International publication number)：2008080230
Application date： Sep. 27, 2006
Publication date： Apr. 10, 2008
Summary：

【課題】マイクロバブルまたはナノバブルを含む処理液を使用する基板処理装置および基板処理方法において、基板に対してマイクロバブルまたはナノバブルを効果的に作用させることができる技術を提供する。【解決手段】マイクロバブル洗浄処理部40は、圧送される洗浄液中に注入する窒素ガスの流量を調節することにより、洗浄液中に含まれるマイクロバブルのサイズを調節することができる。このため、除去対象となるパーティクルのサイズに応じて最適なサイズのマイクロバブルを多量に供給することができ、基板に対してマイクロバブルを効果的に作用させることができる。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

マイクロバブルまたはナノバブルを含む処理液により基板を処理する基板処理装置において、処理液中にマイクロバブルまたはナノバブルを発生させるバブル発生手段と、処理液中のマイクロバブルまたはナノバブルのサイズを調節するサイズ調節手段と、マイクロバブルまたはナノバブルを含む処理液を基板に供給する処理液供給手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4)：

B08B 3/10 , H01L 21/027 , B08B 3/02 , H01L 21/304

FI (6)：

B08B3/10 Z , H01L21/30 572B , B08B3/02 C , H01L21/304 643B , H01L21/304 643C , H01L21/304 648G

F-Term (17)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB14 , 3B201BA02 , 3B201BB34 , 3B201BB38 , 3B201BB88 , 3B201BB90 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB94 , 3B201BC01 , 3B201CB15 , 3B201CB25 , 3B201CC01 , 5F046MA01 , 5F046MA10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

ナノバブルの利用方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-288963 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-327753 Applicant：株式会社荏原製作所
基板処理装置およびパーティクル除去方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-372959 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

Return to Previous Page