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J-GLOBAL ID：200903098793067556

新規スルホニウム塩

Inventor： 大澤 洋一 ,  渡辺 聡 ,  島田 順次 ,  竹村 勝也 ,  石原 俊信
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995084424
Publication number (International publication number)：1996245566
Application date： Mar. 07, 1995
Publication date： Sep. 24, 1996
Summary：

【要約】【目的】 微細加工技術に適した高解像性を有する化学増幅ポジ型レジスト材料の成分として好適な新規スルホニウム塩を提供する。【構成】 下記一般式(1)で表される新規スルホニウム塩【化1】

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表される新規スルホニウム塩【化1】

IPC (3)：

C07C381/12 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501

FI (3)：

C07C381/12 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 新規なオニウム塩及びそれを用いたポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-242101   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 特開平4-219757
  
• 特開平4-215662