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J-GLOBAL ID：200903098864639505

マスクレス露光装置及びマスクレス露光方法

Inventor：
小口 寿明

About 小口 寿明


Applicant, Patent owner：
日本精工株式会社

About 日本精工株式会社


Agent (3)： 森 哲也 ,  内藤 嘉昭 ,  崔 秀▲てつ▼
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007254463
Publication number (International publication number)：2009086189
Application date： Sep. 28, 2007
Publication date： Apr. 23, 2009
Summary：
【課題】例えば軸受装置のインナレースやアウタレースの表面ような曲面に温度センサのエレメントなどの露光パターンを高精度に形成することができるマスクレス露光装置を提供する。【解決手段】 露光用光源14の光をスポット光に整形して被露光表面EFに向けて出射する光学手段18と、光学手段から被露光表面に出射するスポット光の出射領域を変更し、且つ、スポット光の領域が変化する速度を変更する出射領域変更手段12,22と、露光用光源のオン・オフ制御を行い、且つ、出射領域変更手段を制御することで被露光表面に所定の露光パターンを形成する露光パターン制御手段24とを備えている。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
被露光対象物の曲面形状に形成されている表面を被露光表面とし、感光材料を塗布した前記被露光表面に、露光用光源の光をフォトマスクを使用せずに照射して所定の露光パターンを形成するマスクレス露光装置であって、 前記露光用光源の光をスポット光に整形して前記被露光表面に向けて出射する光学手段と、 前記光学手段から前記被露光表面に出射する前記スポット光の出射領域を変更し、且つ、前記スポット光の領域が変化する速度を変更する出射領域変更手段と、 前記露光用光源のオン・オフ制御を行い、且つ、前記出射領域変更手段を制御することで前記被露光表面に所定の露光パターンを形成する露光パターン制御手段と、を備えていることを特徴とするマスクレス露光装置。
IPC (1)：
G03F 7/20
FI (1)：
G03F7/20 501
F-Term (6)：
2H097AA03 ,  2H097AA16 ,  2H097AB06 ,  2H097BA01 ,  2H097BB01 ,  2H097LA20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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