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J-GLOBAL ID：200903081783002618

マスクレスリソグラフィシステム及びマスクレスリソグラフィにおけるドーズ制御方法

Inventor： アルノ ブレーカー ,  ウェンセスラオ エイ セブハー ,  ジェーソン ディー ヒンタースタイナー ,  アンドリュー ダブリュー マッカロー ,  ソロモン エス ウァッサーマン
Applicant, Patent owner： エーエスエムエル ホールディング ナームローゼ フェンノートシャップ
Agent (4)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004162318
Publication number (International publication number)：2004363598
Application date： May. 31, 2004
Publication date： Dec. 24, 2004
Summary：

【課題】マスクレスリソグラフィシステムにおいて、基板のただ1つのパスの間に各パターンに対して基板における所望の全ての領域を露光できるドーズ制御方法を提供する。【解決手段】マスクレスリソグラフィシステム100は照明システム102と、対象と、空間光変調器(SLM)104と、制御装置116を有しており、照明システム102からの光をパターニングするSLM104に対し、制御装置116は、光パルス期間情報、SLM104に関する物理的レイアウト情報、及び対象のスキャニングスピードのうちの少なくとも1つに基づいて制御信号を送信する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

マスクレスリソグラフィシステムであって、 照明システムと; 対象と; 空間光変調器(SLM)と; 制御装置を有しており、 前記空間光変調器は、光が対象によって受光される前に、前記照明システムからの光をパターニングし、 前記SLMは、SLMの先行組とSLMの追従組を含み、 当該先行組及び追従組内のSLMは、前記対象のスキャン方向に基づいて変化し、 前記制御装置は、光パルス期間情報、SLMに関する物理的レイアウト情報、及び対象のスキャニングスピードのうちの少なくとも1つに基づいて制御信号をSLMに送信する、 ことを特徴とするマスクレスリソグラフィシステム。

IPC (3)：

H01L21/027 ,  G02F1/13 ,  G03F7/20

FI (3)：

H01L21/30 529 ,  G02F1/13 505 ,  G03F7/20 521

F-Term (8)：

2H088EA39 ,  2H088HA10 ,  2H088HA28 ,  2H088MA20 ,  5F046BA07 ,  5F046CB17 ,  5F046CB18 ,  5F046DA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 多重露光描画方法及び多重露光描画装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-198375   Applicant：ペンタックス株式会社
• 改良型パターン・ジェネレータ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-102101   Applicant：マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット
• 精度改良型パターン・ジェネレータ
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-534915   Applicant：マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット