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J-GLOBAL ID:200903098939686083

半導体装置およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 早瀬 憲一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997263360
Publication number (International publication number):1999103072
Application date: Sep. 29, 1997
Publication date: Apr. 13, 1999
Summary:
【要約】【課題】 従来の櫛形トランジスタでは、各トランジスタセル間の特性やインピーダンスの不揃いなどの原因によりDCあるいは高周波印加時に発振するという問題があった。【解決手段】 本発明は、隣接するトランジスタセル間におけるゲートバス8部分を、トランジスタセル間で生じる発振を防止するための抵抗9で形成する。【効果】 本発明によれば、上記抵抗9が利得損失分として作用するため、トランジスタセル間の特性のアンバランスに起因する発振をキャンセルでき、その結果、トランジスタの合成効率を向上することができるという効果がある。
Claim (excerpt):
半導体基板上に複数のトランジスタセルを並列接続する高出力トランジスタを形成したトランジスタチップを備える半導体装置において、上記高出力トランジスタは、ゲートバスに接続する複数のストライプ状のゲート電極を介して、ドレインパッドに接続する複数のストライプ状のドレイン電極と、ソースパッドに接続する複数のストライプ状のソース電極とを櫛状に交互に対向配置させたトランジスタセルを複数個配置して並列接続したものであって、上記隣接するトランジスタセル間におけるゲートバス部分を、トランジスタセル間で生じる発振を防止するための抵抗により形成してなることを特徴とする半導体装置。
IPC (5):
H01L 29/812 ,  H01L 21/338 ,  H01L 23/58 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822
FI (4):
H01L 29/80 R ,  H01L 23/56 Z ,  H01L 27/04 E ,  H01L 29/80 L
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 特開昭63-127575
  • 特開平1-181574
  • 高出力電界効果トランジスタ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-277884   Applicant:日本電気株式会社
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