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J-GLOBAL ID：200903099077750187

電子材料の洗浄方法

Inventor： 井田 純一 ,  森田 博志
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 内山 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001023515
Publication number (International publication number)：2002231677
Application date： Jan. 31, 2001
Publication date： Aug. 16, 2002
Summary：

【要約】【課題】低濃度のオゾン含有水を用いて高い洗浄効果を得ることができる電子材料の洗浄方法を提供する。【解決手段】オゾン濃度5〜50mg/Lのオゾン含有水を用いて電子材料を洗浄する方法であって、オゾン含有水のオゾン濃度cmg/L、温度t°Cとしたとき、c+t≧45を満たす条件で洗浄することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

Claim (excerpt)：

オゾン濃度5〜50mg/Lのオゾン含有水を用いて電子材料を洗浄する方法であって、オゾン含有水のオゾン濃度cmg/L、温度t°Cとしたとき、c+t≧45を満たす条件で洗浄することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

IPC (4)：

H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  C11D 7/02

FI (4)：

H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  C11D 7/02

F-Term (18)：

3B201AA03 ,  3B201AA46 ,  3B201AB33 ,  3B201AB53 ,  3B201BB21 ,  3B201BB44 ,  3B201BB82 ,  3B201BB83 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201CB01 ,  3B201CD01 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EA31 ,  4H003ED02 ,  4H003EE03 ,  4H003FA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 電子部品部材類の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-103535   Applicant：オルガノ株式会社
• 基板処理装置および基板処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-142334   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社