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J-GLOBAL ID：200903099085038348

活性炭処理装置

Inventor： 田辺 円
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997015250
Publication number (International publication number)：1998211487
Application date： Jan. 29, 1997
Publication date： Aug. 11, 1998
Summary：

【要約】【課題】 発生した酸素ガスが容易に上方に抜け、チャネリングによる短絡を防止する。【構成】 活性炭塔10は、逆円錐台上に形成されており、上方に向けて断面積が大きくなっている。従って、その内部の活性炭層12もその断面積が上方に向けてだんだん大きくなっている。被処理液は、活性炭塔10の底部に導入され、処理液は上部から排出される。従って、被処理液は、活性炭層12の底部の活性炭と最初に接触し、この部分でたくさんの酸素ガスが発生し、これが大径化しながら上方に抜ける。ここで、活性炭層12の活性炭は上部ほど移動しやすい。従って、気泡が抜ける際に上部の活性炭は気泡と入れ替わりやすくチャネリングによる短絡を効果的に防止できる。

Claim (excerpt)：

過酸化水素を含む被処理液を粒状活性炭を充填した活性炭塔に底部側から上部側へ向けて上向流で流通し、被処理液を粒状活性炭と接触させて過酸化水素を分解する活性炭処理装置であって、活性炭塔内部に充填された粒状活性炭によって形成される活性炭層の上部側の断面積を底部側に比べ大きくしたことを特徴とする活性炭処理装置。

IPC (2)：

C02F 1/28 ZAB ,  C02F 1/58

FI (2)：

C02F 1/28 ZAB D ,  C02F 1/58 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 過酸化水素の除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-267832   Applicant：荏原インフィルコ株式会社, 東芝セラミックス株式会社