ストレス軽減剤及びそれを含有してなる皮膚外用剤

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000025793
Publication number (International publication number)：2001213775
Application date： Feb. 03, 2000
Publication date： Aug. 07, 2001
Summary：

【要約】【課題】本発明は、負荷ストレスの生体への悪影響を予防する手段を提供することを課題とする。【解決手段】下記式1に表される化合物又は生理的に許容されるその塩からなる、負荷ストレス軽減剤を化粧料などの皮膚外用剤に含有させる。【化1】式1(但し、式中R1、R2はそれぞれ独立に水素原子又は式2に表される置換基から選ばれる1種乃至は2種以上を有していても良い芳香族基を表し、且つ、R1、R2の少なくとも1方は該置換基を有していても良い芳香族基であり、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子又は式2に表される置換基を表し、R5は水素原子、糖残基、アルキル基又はアシル基を表し、且つ、R5はR4の基と結合し環を形成していても良い。)【化2】式2(但し、式中R5は式1中のR5と同じ意味を表す。)

Claim (excerpt)：

下記式1に表される化合物又は生理的に許容されるその塩からなる、負荷ストレス軽減剤。【化1】式1(但し、式中R1、R2はそれぞれ独立に水素原子又は式2に表される置換基から選ばれる1種乃至は2種以上を有していても良い芳香族基を表し、且つ、R1、R2の少なくとも1方は該置換基を有していても良い芳香族基であり、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子又は式2に表される置換基を表し、R5は水素原子、糖残基、アルキル基又はアシル基を表し、且つ、R5はR4の基と結合し環を形成していても良い。)【化2】式2(但し、式中R5は式1中のR5と同じ意味を表す。)

IPC (12)：

A61K 31/352 , A61K 7/00 , A61K 31/357 , A61K 31/36 , A61K 31/7048 , A61P 25/18 , C07D311/30 , C07D311/32 , C07D311/36 , C07D493/04 106 , C07H 15/26 , C07H 17/07

FI (12)：

A61K 31/352 , A61K 7/00 M , A61K 31/357 , A61K 31/36 , A61K 31/7048 , A61P 25/18 , C07D311/30 , C07D311/32 , C07D311/36 , C07D493/04 106 C , C07H 15/26 , C07H 17/07

F-Term (35)：

4C057BB02 , 4C057DD01 , 4C057KK08 , 4C057KK09 , 4C062EE44 , 4C062EE53 , 4C071AA01 , 4C071AA08 , 4C071BB01 , 4C071CC13 , 4C071EE04 , 4C071EE10 , 4C071FF17 , 4C071HH05 , 4C071JJ01 , 4C083AC102 , 4C083AC112 , 4C083AC122 , 4C083AC432 , 4C083AC841 , 4C083AC842 , 4C083AD212 , 4C083AD391 , 4C083AD392 , 4C083CC04 , 4C083DD23 , 4C083EE50 , 4C086AA01 , 4C086AA02 , 4C086BA08 , 4C086CA01 , 4C086MA01 , 4C086MA63 , 4C086NA14 , 4C086ZA89

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

津液改善用皮膚外用剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-260526 Applicant：有限会社ドクターズ・コスメテイクス, ポーラ化成工業株式会社
アトピー性皮膚炎治療剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-285496 Applicant：呉羽化学工業株式会社
特開平3-005423

Show all

Return to Previous Page