真空処理装置用素材及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅井章弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994197205
Publication number (International publication number)：1995176524
Application date： Jul. 29, 1994
Publication date： Jul. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】硬度が高くてガス放出量の少ない真空処理装置用素材を提供する。【構成】純粋アルミニウムを含むアルミニウム合金により真空処理装置用基材24を形成し、この表面に形成されている自然酸化膜72をエッチング処理により除去する。その後、この表面に真空雰囲気中にて酸化アルミニウムを堆積する。これにより、緻密で且つガス放出量の少ない酸化アルミニウム被膜76を形成することができる。

Claim (excerpt)：

純粋アルミニウムを含むアルミニウム合金により真空処理装置用基材を形成し、この真空処理装置用基材の表面に形成されている自然酸化膜をエッチング処理により除去し、その後、前記エッチング処理がなされた真空処理装置用基材の表面に真空雰囲気中にて酸化アルミニウムを堆積するように構成したことを特徴とする真空処理装置用基材の製造方法。

IPC (5)：

H01L 21/3065 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/314 , H01L 21/316

FI (2)：

H01L 21/302 N , H01L 21/302 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-301062
特開平4-239130
特開昭56-156777

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