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J-GLOBAL ID:200903099587523053
気相反応による酸化物の制御エッチング方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
菅原 一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995086359
Publication number (International publication number):1996081788
Application date: Mar. 17, 1995
Publication date: Mar. 26, 1996
Summary:
【要約】【目的】 酸化物表面上における汚染物質の生成を抑制して後処理の必要を無くし、併せてエッチング速度を制御して均一なエッチング効果を得ること、さらに酸化物のエッチング中における蒸気の存在を最少とすること。【構成】 このためこの発明においては、所定温度の基層の表面を含ハロゲン化合物化学種と他の材料との気相混合物によりエッチングし、標準状態において高い蒸気圧を有する低分子量有機分子と水とからなる群から上記の他の材料を選び、かつ水が実質的に気相に保たれかつエッチングされた表面上の化学種が制御されるような圧力の密閉房室内においてエッチングを行う。
Claim (excerpt):
所定温度の基層の表面が含ハロゲン化合物化学種と他の材料との気相混合物によりエッチングされ、標準状態において高い蒸気圧を有する低分子量有機分子と水とからなる群から上記の他の材料が選ばれ、かつ水が実質的に気相に保たれかつエッチングされた表面上の化学種が制御されるような圧力の密閉房室内においてエッチングが行われることを特徴とする気相反応による酸化物の制御エッチング方法。
IPC (3):
C23F 1/12
, C30B 33/12
, H01L 21/306
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特開平3-241832
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エッチング方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-327907
Applicant:日本電気株式会社, 日本エー・エス・エム株式会社
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