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J-GLOBAL ID：200903099768642801
走査型露光装置及び露光方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
田辺 恵基
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994158126
Publication number (International publication number)：1996008172
Application date： Jun. 16, 1994
Publication date： Jan. 12, 1996
Summary：
【要約】【目的】本発明は、走査型露光装置及び露光方法において、マスク上の複数の領域の像を感光基板上に同時に投影するとき、マスクや感光基板上のパターンの直交度誤差を矯正して投影し得るようにする。【構成】マスクや感光基板上のパターンに、走査方向に向かうに従つて走査方向と直交する第1の方向に所定の角度でずれる直交度誤差が存在するとき、マスクと感光基板とを面内で相対的に回転して、それぞれのパターンの座標系の一方の座標軸を第1の方向に合わせた後、第1光学系を介して投影される像の位置と第2光学系を介して投影される像の位置とを第1の方向に相対的に直交度誤差分だけ変位し、かつマスク又は感光基板の走査方向の位置に応じてマスクと感光基板との相対位置を第1の方向に直交度誤差分だけ連続的に変位する。
Claim (excerpt)：
パターンが形成されたマスク上の複数の領域をそれぞれ照明する複数の照明光学系と、第1の方向に沿つて一列に光軸を配置した複数の投影光学系を有する第1光学系と、前記第1光学系と平行に、且つ所定間隔をおいて一列に光軸を配置した複数の投影光学系を有する第2光学系とを有し、前記複数の領域の像の一部を前記第1光学系を介して、また前記複数の領域の像の他の一部を前記第2光学系を介して同時に感光基板上に投影すると共に、前記第1の方向とほぼ直交し、且つ前記感光基板の面内の方向に前記マスクと前記感光基板とを同期して走査する走査型露光装置において、前記マスクと前記感光基板とを、前記マスク若しくは前記感光基板の面内で相対的に回転する回転手段と、前記マスク若しくは前記感光基板の前記走査方向の位置に応じて前記マスクと前記感光基板との相対位置を前記第1の方向に変位する位置変位手段と、前記第1光学系を介して投影される像の位置と前記第2光学系を介して投影される像の位置とを前記第1の方向に相対的に変位する結像位置変更手段とを具えることを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
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特開昭63-128713
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投影露光方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平4-249109
Applicant：株式会社日立製作所
Cited by examiner (2)
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特開昭63-128713
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投影露光方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平4-249109
Applicant：株式会社日立製作所
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