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J-GLOBAL ID：200903099774439589

カチオン変性精製ガラクトマンナン多糖及び該物質を含む化粧料組成物

Inventor：
武田 博光

About 武田 博光

, 
森 芳彦

About 森 芳彦


Applicant, Patent owner：
東邦化学工業株式会社

About 東邦化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004368566
Publication number (International publication number)：2006131862
Application date： Dec. 20, 2004
Publication date： May. 25, 2006
Summary：
【課題】 毛髪処理用組成物に配合した場合には、優れたコンディショニング効果と、乾燥後にはしっとりした良好な感触と柔軟性を与え、ボディ用洗浄剤などの皮膚化粧料組成物に配合した場合には、コンディショニング効果と、乳化性能により使用感が改善されるカチオン変性ガラクトマンナン多糖を提供する。【解決手段】 豆科植物であるフェヌグリークの種子の胚乳部分より得られる、マンノースを構成単位とする主鎖に、ガラクトース単位が側鎖として構成された、マンノースとガラクトースの組成比が1対1である粗製ガラクトマンナンを精製することにより得られる、ガラクトマンナンの含有量が85質量%以上である精製ガラクトマンナン多糖であって、該精製ガラクトマンナン多糖に含まれる水酸基の一部に、特定の第4級窒素含有基を導入して得られるカチオン変性精製ガラクトマンナン多糖と、該カチオン変性精製ガラクトマンナン多糖を含有する化粧料組成物。
Claim (excerpt)：
粗製ガラクトマンナン多糖を精製することにより得られる、マンノースを構成単位とする主鎖にガラクトース単位が側鎖として構成された、マンノースとガラクトースの組成比が1対1であるガラクトマンナンの含有量が85質量%以上である精製ガラクトマンナン多糖であって、該精製ガラクトマンナン多糖の水酸基の一部が、下記化学式(1)で表される第4級窒素含有基で置換されており、該第4級窒素含有基由来のカチオン電荷量が0.1〜3.0meq/gであるカチオン変性精製ガラクトマンナン多糖。
IPC (10)：
C08B 37/00 ,  A61K 8/72 ,  A61K 8/96 ,  A61K 8/00 ,  A61Q 1/02 ,  A61Q 5/00 ,  A61Q 5/02 ,  A61Q 5/12 ,  A61Q 9/02 ,  A61Q 19/10
FI (9)：
C08B37/00 K ,  A61K7/00 J ,  A61K7/00 K ,  A61K7/021 ,  A61K7/06 ,  A61K7/075 ,  A61K7/08 ,  A61K7/15 ,  A61K7/50
F-Term (97)：
4C083AA082 ,  4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB011 ,  4C083AB032 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB332 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AC022 ,  4C083AC071 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC231 ,  4C083AC241 ,  4C083AC242 ,  4C083AC262 ,  4C083AC302 ,  4C083AC312 ,  4C083AC342 ,  4C083AC352 ,  4C083AC392 ,  4C083AC402 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC482 ,  4C083AC521 ,  4C083AC532 ,  4C083AC542 ,  4C083AC582 ,  4C083AC641 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC902 ,  4C083AD042 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD242 ,  4C083AD442 ,  4C083AD452 ,  4C083AD532 ,  4C083AD662 ,  4C083BB34 ,  4C083BB35 ,  4C083BB36 ,  4C083BB53 ,  4C083CC04 ,  4C083CC11 ,  4C083CC12 ,  4C083CC21 ,  4C083CC23 ,  4C083CC31 ,  4C083CC38 ,  4C083CC39 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083DD38 ,  4C083DD39 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE12 ,  4C083EE28 ,  4C083EE29 ,  4C083EE41 ,  4C083FF01 ,  4C090AA02 ,  4C090AA04 ,  4C090AA05 ,  4C090AA08 ,  4C090BA70 ,  4C090BA92 ,  4C090BA97 ,  4C090BB13 ,  4C090BB14 ,  4C090BB92 ,  4C090BC11 ,  4C090BC12 ,  4C090BD34 ,  4C090BD36 ,  4C090CA37 ,  4C090DA03 ,  4C090DA04 ,  4C090DA26
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
  • 特公昭47-20635号公報(第5頁)
  • 特開平4-364111公報(第1-6頁)
  • 化粧品基材
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-355303   Applicant：日澱化學株式会社
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Cited by examiner (3)
  • 洗浄剤組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-375907   Applicant：サンスター株式会社
  • 高純度グアーミールの製造方法
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願平11-501226   Applicant：メイハルアーゲー
  • 化粧料用組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-176394   Applicant：東邦化学工業株式会社

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