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J-GLOBAL ID：200903099966097258

ビス(ヒドロキシシクロヘキシル)アルカン及びその誘導体のポリオキシアルキレン化合物、並びに当該化合物を含有するメッキ浴

Inventor：
西川 哲治

About 西川 哲治

, 
藤村 一正

About 藤村 一正


Applicant, Patent owner：
石原薬品株式会社

About 石原薬品株式会社


Agent (1)： 豊永 博隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996047908
Publication number (International publication number)：1997216845
Application date： Feb. 08, 1996
Publication date： Aug. 19, 1997
Summary：
【要約】【課題】 新規のポリオキシエチレン化合物を合成し、その含有によりメッキ浴の低起泡性並びに消泡性を実現して、高い作業性を獲得する。【解決手段】 下記の(I)式の化合物を一例とする新規のシクロヘキサノール系ポリオキシアルキレン化合物を合成し、当該化合物をメッキ浴に含有して電気メッキ又は無電解メッキを施す。【化1】これにより、メッキ浴に優れた低起泡性並びに消泡性を付与でき、メッキの作業性が良好に向上する。
Claim (excerpt)：
次の一般式(I)【化1】(式(I)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10はC1〜5アルキル、水素である;A1、A2はC1〜4アルキレンである;m1、m2は1〜50の整数である;n1、n2は1〜5の整数である;X、YはC1〜5アルキル、C2〜5アルケニル、ハロゲン、ベンジル、水素である。)で表されるビス(ヒドロキシシクロヘキシル)アルカン及びその誘導体のポリオキシアルキレン化合物。
IPC (10)：
C07C 43/184 ,  C07C 43/188 ,  C07C 43/192 ,  C07C 43/196 ,  C25D 3/02 ,  C25D 3/22 ,  C25D 3/26 ,  C25D 3/32 ,  C25D 3/38 101 ,  C25D 3/56
FI (11)：
C07C 43/184 ,  C07C 43/188 ,  C07C 43/192 ,  C07C 43/196 ,  C25D 3/02 ,  C25D 3/22 ,  C25D 3/26 ,  C25D 3/32 ,  C25D 3/38 101 ,  C25D 3/56 Z ,  C25D 3/56 C
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
  • 人造大理石調浴槽
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-210198   Applicant：日立化成工業株式会社
  • 写真用支持体の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-334937   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • 特開平4-170415
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