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J-GLOBAL ID：201002207907699796   Reference number：10A0105566

Spray Chemical Vapor Deposition of Large-Area Transparent Conducting Films: Improvement of Uniform Substrate Temperature

スプレーCVD法による透明導電膜の大面積成膜:基板温度の均一化

Author (4)： SAWADA YUTAKA (東京工芸大 工) ,  OKUBO HAYATO (東京工芸大 工) ,  SUZUKI TOSHIZUMI (東京工芸大 工) ,  SEKI YOSHIYUKI (東京工芸大 工)
Material： Journal of Flux Growth  (J Flux Growth)
Volume： 4  Issue： 2  Page： 67-68  Publication year： Dec. 11, 2009 
JST Material Number： L7066A  ISSN： 1881-5316  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *tin oxide ,  *transparent conducting thin films ,  chemical vapor deposition ,  substrate temperature ,  film thickness ,  *electrical resistivity ,  transmissivity ,  compound semiconductor ,  semiconductor thin film ,  thin film growth ,  *optical constant
Semi thesaurus term： *spray CVD

JST classification (3)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Electric conduction in crystalline semiconductors  (BM03043X) ,  Optical properties of condensed matter in general  (BM08010A)

Terms in the title (7)： スプレー ,  CVD法 ,  透明導電膜 ,  大面積 ,  成膜 ,  基板温度 ,  均一化