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J-GLOBAL ID：201002229658599615   Reference number：10A0013116

One-Step Direct-Patterning Template Utilizing Self-Assembly of POSS-Containing Block Copolymers

POSS含有ブロック共重合体の自己集合を利用する一段階直接パターン形成用テンプレート

Author (10)： HIRAI Tomoyasu (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  LEOLUKMAN Melvina (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  LIU Chi Chun (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  HAN Eungnak (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  KIM Yun Jun (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  ISHIDA Yoshihito (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  HAYAKAWA Teruaki (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  KAKIMOTO Masa-aki (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  NEALEY Paul F. (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  GOPALAN Padma (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA)
Material： Advanced Materials  (Adv Mater (Deerfield, Fla.))
Volume： 21  Issue： 43  Page： 4334-4338  Publication year： Nov. 20, 2009 
JST Material Number： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Germany, Federal Republic of (DEU)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *diblock copolymer ,  *pattern formation ,  *lithography ,  organosilicon compound ,  polymethyl methacrylate ,  polystyrene ,  template effect ,  self assembly ,  RIE
Semi thesaurus term： *nano lithography ,  reactive ion etching

JST classification (3)： Solid-liquid interface  (CB12050B) ,  Other properties of polymer solids  (CG02025L) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (6)： POSS ,  ブロック共重合体 ,  自己集合 ,  段階 ,  パターン形成 ,  テンプレート