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J-GLOBAL ID：201002255151377387   Reference number：10A0165031

Microwave plasma chemical vapor deposition of graphitic carbon thin films

黒鉛性炭素薄膜のマイクロ波プラズマ化学蒸着

Author (4)： MARCINEK Marek (Environmental Energy Technologies Div., Lawrence Berkeley National Lab., Berkeley, CA 94720, USA) ,  HARDWICK Laurence J. (Environmental Energy Technologies Div., Lawrence Berkeley National Lab., Berkeley, CA 94720, USA) ,  ZUKOWSKA Grazyna Z. (Fac. of Chemistry, Warsaw Univ. of Technol., ul. Noakowskiego 3, 00-664 Warsaw, POL) ,  KOSTECKI Robert (Environmental Energy Technologies Div., Lawrence Berkeley National Lab., Berkeley, CA 94720, USA)
Material： Carbon
Volume： 48  Issue： 5  Page： 1552-1557  Publication year： Apr. 2010 
JST Material Number： H0270B  ISSN： 0008-6223  CODEN： CRBNA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Graphite ,  ultrathin film ,  film production ,  plasma CVD ,  nanostructure ,  structure analysis ,  electrical conductivity ,  correlation ,  polystyrene ,  polynuclear aromatic hydrocarbon ,  polyacene

JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D)

Substance index (1)： Anthracene

Terms in the title (3)： 黒鉛 ,  炭素薄膜 ,  マイクロ波プラズマ化学蒸着