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J-GLOBAL ID：201002259620417650   Reference number：10A1060737

Diamond growth by chemical vapour deposition

化学蒸着によるダイヤモンド成長

Author (3)： GRACIO J J (Univ. Aveiro, Aveiro, PRT) ,  FAN Q H (Univ. Aveiro, Aveiro, PRT) ,  MADALENO J C (Univ. Aveiro, Aveiro, PRT)
Material： Journal of Physics. D. Applied Physics  (J Phys D)
Volume： 43  Issue： 37  Page： 374017,1-22  Publication year： Sep. 22, 2010 
JST Material Number： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  *Diamond ,  epitaxy ,  *characterization ,  nano crystal ,  mechanism ,  Raman spectroscopy ,  Raman spectrum ,  X-Ray Diffraction ,  electron microscopy ,  *thin film ,  *diamond film ,  *ore ,  *precious stone
Semi thesaurus term： characterization ,  成長機構

JST classification (2)： Carbon and its compounds  (YB02060D) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (3)： 化学蒸着 ,  ダイヤモンド ,  成長