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J-GLOBAL ID：201002264141237926   Reference number：10A0026844

次代を拓く-工業材料キーワード28 真空紫外光による環境調和型光プロセス-光を創る・光で創る

Author (5)： KATTO MASAHITO (宮崎大) ,  KAMEYAMA AKIHIRO (宮崎大) ,  KAKU MASANORI (宮崎大) ,  KUBODERA SHOICHI (宮崎大) ,  YOKOTANI ATSUSHI (宮崎大)
Material： 工業材料  (Engineering Materials)
Volume： 58  Issue： 1  Page： 40-41  Publication year： Jan. 01, 2010 
JST Material Number： F0172A  ISSN： 0452-2834  CODEN： KZAIA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *vacuum ultraviolet radiation ,  Photochemistry ,  silent discharge ,  rare gas ,  *discharge excitation ,  discharge lamp ,  polysilicon ,  chemical vapor deposition ,  *photochemical reaction ,  silicon dioxide ,  film deposition
Semi thesaurus term： silica ,  dielectric barrier discharge ,  excimer lamp

JST classification (2)： Photochemical reactions  (CB08020F) ,  Vacuum production and techniques  (BA02020L)

Terms in the title (6)： 工業材料 ,  キーワード ,  真空 ,  紫外光 ,  環境調和型 ,  プロセス