Art

J-GLOBAL ID：201002282685968795   Reference number：10A0048998

Anomalous Grazing Incidence Small-Angle Scattering of Capped Ge Nanodots at the Si K Absorption Edge

Si K吸収端におけるキャップGeナノドットの異常なすれすれ入射小角散乱

Author (4)： OKUDA Hiroshi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KATO Masayuki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  OCHIAI Shojiro (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KITAJIMA Yoshinori (High Energy Accelerator Res. Organization, Ibaraki, JPN)
Material： Applied Physics Express  (APEX)
Volume： 2  Issue： 12  Page： 126501.1-126501.3  Publication year： Dec. 25, 2009 
JST Material Number： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *small angle X-ray scattering ,  *nanostructure ,  X-ray absorption edge ,  grazing incidence ,  soft X-ray ,  hard X-ray ,  distorted wave Born approximation ,  anomalous dispersion ,  contrast ,  silicon ,  *Germanium ,  Computer Simulation ,  *nanodot ,  computer application ,  utilization
Semi thesaurus term： *X-ray small angle scattering

JST classification (1)： X-ray diffraction methods  (BK01020I)

Reference (17)：

• RENAUD, G. Science. 2003, 300, 1416
• LEROY, F. J. Cryst. Growth. 2005, 275, e2195
• ROTH, S. V. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1935
• LEE, B.-D. Macromolecules. 2005, 38, 3395
• VARTANYANTS, I. A. Phys. Rev. B. 2005, 71, 245302

Terms in the title (7)： Si ,  K吸収端 ,  キャップ ,  Ge ,  ナノドット ,  すれすれ入射 ,  小角散乱