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J-GLOBAL ID：201002295320265188   Reference number：10A1534696

Effects of Sputtering Gas Pressure on Electrochromic Properties of Ni Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering in H₂O Atmosphere

H₂O雰囲気での反応性スパッタリングによって作られたNiオキシ水酸化物薄膜のエレクトロクロミック特性に関するスパッタリングガス圧力の効果

Author (6)： ABE Yoshio (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  UETA Hideaki (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  OBATA Takeshi (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  KAWAMURA Midori (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  SASAKI Katsutaka (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  ITOH Hidenobu (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 49  Issue： 11  Page： 115802.1-115802.4  Publication year： Nov. 25, 2010 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： oxide ,  *hydroxide ,  *nickel compound ,  *water ,  *reactive sputtering ,  *sputtering ,  *optical absorption ,  thin film ,  optical element ,  *transmissivity ,  absorbance
Semi thesaurus term： oxyhydroxide ,  optical density ,  electrochromic cell

JST classification (2)： Sputtering  (BK16110U) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Reference (23)：

• C. G. Granqvist: Handbook of Inorganic Electrochromic Materials (Elsevier, Amsterdam, 1995) p. 1.
• Electrochromic Displays, ed. N. Baba, M. Yamana, and H. Yamamoto (Sangyo Tosho, Tokyo, 1991) p. 27 [in Japanese].
• P. C. Yu, G. Nazri, and C. M. Lampert: Sol. Energy Mater.16(1987)1.
• K. Yoshimura, T. Miki, and S. Tanemura: Jpn. J. Appl. Phys.34(1995)2440.
• K.-S. Ahn, Y.-C. Nah, and Y.-E. Sung: J. Appl. Phys.92(2002)1268.

Terms in the title (9)： H2O ,  雰囲気 ,  反応性スパッタリング ,  Ni ,  オキシ水酸化物 ,  薄膜 ,  エレクトロクロミック特性 ,  スパッタリング ,  ガス圧力