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J-GLOBAL ID：201002298685977984   Reference number：10A0710803

Surface Relief and Porous Structure Patterning of Polyimide

ポリイミドの表面レリーフと多孔性構造パターニング

Author (5)： KODERA Fumiaki (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  MATSUZAWA Yasushi (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  OKANO Kunihiko (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  TOMIYAMA Etsuko (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  YAMASHITA Takashi (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 23  Issue： 2  Page： 235-240  Publication year： 2010 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *PMDA-ODA ,  microelectronics ,  thermal stability ,  *surface structure ,  *porosity (property) ,  *pattern formation ,  polyamic acid ,  photoacid generator ,  polycondensation ,  aerospace material ,  photochemical reaction ,  photoirradiation ,  imidization ,  photobase generator ,  reaction temperature ,  porous medium ,  surface quality ,  aromatic carboxylic acid ,  oxygen heterocyclic compound ,  polynuclear aromatic compound ,  carboxylic anhydride ,  nitrogen heterocyclic compound ,  *structure

JST classification (2)： Structure and morphology of polymer solids  (CG02022M) ,  Photochemistry in general  (CB08010U)

Substance index (4)： Pyromellitic acid anhydride ,  4,4'-Oxybisaniline ,  N-Methylpyrrolidone ,  Pyridine

Reference (27)：

• K. Horie and T. Yamashita, Technomic,(1996) Edition
• H.Higuchi, T. Yamashita, K. Horie, and I. Mita, Chem. Mater., 3, 188-194(1991)
• Q. Jin, T. Yamashita, and K. Horie, J. Polym. Sci., Part A, Polym. Chem., 32, 503-511(1994)
• T. Kudo, T. Yamashita, K. Horie, J. Photopolymer Sci., Tech., 4, 173-176(1991)
• Q. Jin, T. Yamashita, and K. Horie, J. Photopolym. Sci. Tech., 5, 335-338(1992)

Terms in the title (4)： ポリイミド ,  表面レリーフ ,  多孔性構造 ,  パターニング