Pat
J-GLOBAL ID:201003001169449883
グラフェン酸化物の脱酸素
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
小野 新次郎
, 社本 一夫
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 松田 豊治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010091959
Publication number (International publication number):2010248066
Application date: Apr. 13, 2010
Publication date: Nov. 04, 2010
Summary:
【課題】費用及び危険性を伴なう、ヒドラジン、高温、不活性ガスを必要としないグラフェン酸化物の還元法を提供する。【解決手段】グラフェン酸化物(GO)標的物を、GO標的物の脱酸素反応を開始させるのに足る出力を有する光に暴露し、光熱分解する。GO標的物の脱酸素反応中に酸素を捕捉する触媒が、ニッケル、銅、ケイ素およびマグネシウムの1種または複数である触媒を用いて、GO標的物を、200ナノメートル〜400ナノメートルの波長を有するグラフェン酸化物の薄膜をパターニングするように配置されたリソグラフィー光源からの光に暴露して、GO標的物の脱酸素反応中に酸素を捕捉する。【選択図】なし
Claim (excerpt):
段階:
グラフェン酸化物(GO)標的物を、GO標的物の脱酸素反応を開始させるのに足る出力を有する光に暴露する段階、ここにおいて、GO標的物の脱酸素反応はGO標的物をグラフェンに変換する、
を含む方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (16):
4G146AA02
, 4G146AB07
, 4G146AC02B
, 4G146AD11
, 4G146AD20
, 4G146BA02
, 4G146BA49
, 4G146BC04
, 4G146BC20
, 4G146BC29
, 4G146BC50
, 4G146CA09
, 4G146CB10
, 4G146CB16
, 4G146DA04
, 4G146DA42
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
-
炭素からなる骨格を持つ薄膜状粒子を基板に載せた構造物およびその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-032881
Applicant:三菱瓦斯化学株式会社
-
グラフェンシートの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-233021
Applicant:国立大学法人北海道大学, 寿産業株式会社, 札幌エレクトロプレイティング工業株式会社
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