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J-GLOBAL ID：201003003190724552
レーザ光照射装置およびレーザ光照射方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (4)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 石田 悟
, 柴田 昌聰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008223975
Publication number (International publication number)：2010058128
Application date： Sep. 01, 2008
Publication date： Mar. 18, 2010
Summary：
【課題】対象物の内部の複数の集光位置それぞれにおけるレーザ光の集光領域の伸張を低減することができるレーザ光照射装置を提供する。【解決手段】レーザ光照射装置1は、対象物9の内部の複数の集光位置にレーザ光を集光照射する装置であって、レーザ光源10、プリズム20、空間光変調器30、レンズ41、レンズ42、ミラー50および対物レンズ60を備える。空間光変調器30は、レーザ光源10から出力されたレーザ光を入力し、2次元配列された複数の画素それぞれにおいてレーザ光の位相を変調するホログラムを呈示して、その位相変調後のレーザ光を出力する。空間光変調器30に呈示されるホログラムは、複数の集光位置それぞれにレーザ光を集光させるための集光用ホログラムと、複数の集光位置それぞれに応じたレーザ光の収差を補正するための補正用ホログラムと、が重畳されたものである。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
対象物の内部の複数の集光位置にレーザ光を集光照射する装置であって、
レーザ光を出力するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出力されたレーザ光を入力し、2次元配列された複数の画素それぞれにおいて前記レーザ光の位相を変調するホログラムを呈示して、その位相変調後のレーザ光を出力する位相変調型の空間光変調器と、
前記空間光変調器から出力されたレーザ光を前記複数の集光位置に集光する集光光学系と、
前記複数の集光位置それぞれにレーザ光を集光させるための集光用ホログラムと、前記複数の集光位置それぞれに応じたレーザ光の収差を補正するための補正用ホログラムと、を重畳したホログラムを前記空間光変調器に呈示させる制御部と、
を備えることを特徴とするレーザ光照射装置。
IPC (2)：
FI (3)：
B23K26/06 A
, B23K26/06 Z
, B23K26/067
4E068CD04
, 4E068CD05
, 4E068CD08
, 4E068CD09
Cited by applicant (1)
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レーザー加工方法およびレーザー加工装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2004-253380
Applicant：国立大学法人徳島大学
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