Pat
J-GLOBAL ID：201003007801801898
磁気-光学活性ポリチオフェン誘導体とその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008195495
Publication number (International publication number)：2010031157
Application date： Jul. 29, 2008
Publication date： Feb. 12, 2010
Summary：
【課題】ポリマー主鎖間でのキラル集合による主鎖間の螺旋間構造によるキラルな光学活性を示し、さらにポリマーが安定なラジカルを保持することにより磁気的な活性をも示す新規な磁気-光学活性ポリチオフェン誘導体とその製造方法を提供する。【解決手段】ビストリアルキルスタンニルチオフェン化合物と、これと反応させるチオフェン誘導体として2,5-ジ-tert-ブチル-4-(2,5-ジブロモチオフェン-3-イル)フェノキシトリメチルシランをコレステリック液晶媒体中においてパラジウム触媒の存在下に反応させてポリチオフェン誘導体を合成し、次いでトリメチルシリル基で保護されたフェノール性水酸基の脱保護と酸化により、対応するポリラジカルキラルポリマーとしてのポリチオフェン誘導体を得る。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下記式(I)
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (4)：
4J032BA04
, 4J032BB04
, 4J032BC03
, 4J032CG01
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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