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J-GLOBAL ID:201003014365132990
金属錯体及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
特許業務法人三枝国際特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009132707
Publication number (International publication number):2010180202
Application date: Jun. 02, 2009
Publication date: Aug. 19, 2010
Summary:
【課題】優れたガス分離性能を有する金属錯体を提供する。【解決手段】イソフタル酸誘導体、2,7-ナフタレンジカルボン酸誘導体、4,4’-ベンゾフェニンジカルボン酸誘導体など、構造式内でカルボキシル基が互いに120°の位置にあるジカルボン酸化合物と、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛及びカドミウムから選択される少なくとも1種の金属と、該金属に二座配位可能な4,4’-ビピリジルなどの有機配位子とからなる金属錯体。【選択図】なし
Claim (excerpt):
構造式内でカルボキシル基が互いに120°の位置にあるジカルボン酸化合物と、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛及びカドミウムから選択される少なくとも1種の金属と、該金属に二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体。
IPC (6):
C07C 63/24
, C07C 63/38
, C07C 65/34
, C10L 3/10
, C07D 213/22
, B01J 20/22
FI (6):
C07C63/24
, C07C63/38
, C07C65/34
, C10L3/00 B
, C07D213/22
, B01J20/22 A
F-Term (46):
4C055AA01
, 4C055BA01
, 4C055CA01
, 4C055DA01
, 4C055EA01
, 4C055FA01
, 4C055GA02
, 4G066AB05B
, 4G066AB07B
, 4G066AB24B
, 4G066BA36
, 4G066CA23
, 4G066CA24
, 4G066CA27
, 4G066CA28
, 4G066CA29
, 4G066CA35
, 4G066CA37
, 4G066CA39
, 4G066CA43
, 4G066CA51
, 4G066CA56
, 4G066FA03
, 4G066FA05
, 4G066FA21
, 4H006AA01
, 4H006AB90
, 4H006AC90
, 4H006AD15
, 4H006BB20
, 4H006BJ50
, 4H006BR60
, 4H048AA01
, 4H048AB90
, 4H048AC90
, 4H048AD15
, 4H048BB20
, 4H048VA66
, 4H048VB10
, 4H048VB80
, 4H050AA01
, 4H050AB90
, 4H050AD15
, 4H050BB20
, 4H050WB14
, 4H050WB23
Patent cited by the Patent: