シリカ被覆金ナノロッド及びその製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：舘野千惠子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008218108
Publication number (International publication number)：2010053385
Application date： Aug. 27, 2008
Publication date： Mar. 11, 2010
Summary：

【課題】簡便かつ高収率で生産性が高く、不純物としてのシリカ粒塊が少ない非水系溶媒分散型シリカ被覆金ナノロッドを提供する。【解決手段】CTAB(Cetyltrimethyl ammonium bromide)が吸着された金ナノロッド表面を、ポリアクリル酸を主成分とする高分子で被覆し、次いでシリカで被覆し、さらにその表面を少なくとも1つ以上の長鎖アルキル基を有する加水分解性ケイ素化合物で表面修飾したシリカ被覆金ナノロッド。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

CTAB(Cetyltrimethyl ammonium bromide)が吸着された金ナノロッド表面を、分子量が25000以上のポリアクリル酸を主成分とする高分子で被覆し、次いでシリカで被覆し、さらにその表面を少なくとも1つ以上の長鎖アルキル基を有する加水分解性ケイ素化合物で表面修飾したことを特徴とするシリカ被覆金ナノロッド。

IPC (8)：

B22F 1/02 , B22F 1/00 , C09C 3/10 , C09C 3/06 , C09C 3/08 , B22F 9/24 , B82B 1/00 , B82B 3/00

FI (10)：

B22F1/02 D , B22F1/00 K , C09C3/10 , C09C3/06 , C09C3/08 , B22F9/24 E , B22F9/24 F , B82B1/00 , B82B3/00 , B22F1/02 B

F-Term (18)：

4J037AA04 , 4J037CA24 , 4J037CB23 , 4J037CC16 , 4J037DD04 , 4J037EE04 , 4J037EE13 , 4J037EE28 , 4J037EE33 , 4J037EE48 , 4K017AA02 , 4K017BA02 , 4K017EK08 , 4K018AA02 , 4K018BA01 , 4K018BB10 , 4K018BC28 , 4K018BC30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

特許第3906137号公報
蛍光検出法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-501925 Applicant：ユニバーシティオブメリーランド,ボルチモア
着色コーティング液組成物およびそれを用いた表面コート物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-359378 Applicant：冨士色素株式会社

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Cited by examiner (2)

複合金属ナノ粒子、複合金属ナノ粒子を含む多光子吸収反応材料と反応生成物、複合金属ナノ粒子を含む多光子吸収反応助剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-237208 Applicant：株式会社リコー
多光子吸収材料を用いた色素材料、色素溶液、多光子吸収材料を構成する金ナノロッド、及び金ナノロッドの製造方法。
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-039143 Applicant：株式会社リコー

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