レーザー装置及びレーザー増幅方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：堀城之 , 前島幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009133173
Publication number (International publication number)：2010281891
Application date： Jun. 02, 2009
Publication date： Dec. 16, 2010
Summary：

【課題】パルスレーザー光におけるパルスの伸張・圧縮を行うレーザー装置の構成を単純化する。【解決手段】パルスレーザー光は、パルス伸張・圧縮器12に入射する。パルス伸張・圧縮器12通過後には、正にチャープされた状態となる。このパルスレーザー光は、OPA13に入射する。OPA13は、入射光(シグナル光)と共にポンプ光を入射させることによってポンプ光のエネルギーをシグナル光に移行させ、増幅されたシグナル光と、アイドラー光とを出力する。アイドラー光は、シグナル光とは逆に、負にチャープされた状態となっている。このアイドラー光は、前記と同一のパルス伸張・圧縮器12に入射する。従って、このアイドラー光がパルス伸張・圧縮器12を通過後の波形は正にチャープされ、長波長側でのパルスの遅延が補償される。このパルスレーザー光を出力として取り出せば、高出力の超短パルスレーザーを得ることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

パルスレーザー光におけるパルス伸張及び圧縮を行うレーザー装置であって、前記パルスレーザー光から生成されたシグナル光とポンプ光とが入射され、前記シグナル光と逆転した位相をもつアイドラー光を出力する光パラメトリック増幅器と、前記アイドラー光の位相が前記シグナル光の位相と逆転することを利用して前記アイドラー光のパルス圧縮とを行う光学素子と、を具備することを特徴とするレーザー装置。

IPC (1)：

G02F 1/39

FI (1)：

G02F1/39

F-Term (6)：

2K002AB33 , 2K002BA02 , 2K002CA02 , 2K002DA01 , 2K002EA30 , 2K002HA21

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

超短光パルス発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-241422 Applicant：東京大学長
高強度レーザーの高コントラスト化法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-146492 Applicant：独立行政法人日本原子力研究開発機構
コヒーレント光源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-016833 Applicant：浜松ホトニクス株式会社

Cited by examiner (1)

超短光パルス発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-241422 Applicant：東京大学長

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