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J-GLOBAL ID：201003027334012273

誘電性構造体、誘電性構造体を用いた放電装置、流体改質装置、および反応システム

Inventor：
佐藤 慎吾

About 佐藤 慎吾


Applicant, Patent owner：
京セラ株式会社

About 京セラ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008194449
Publication number (International publication number)：2010033867
Application date： Jul. 29, 2008
Publication date： Feb. 12, 2010
Summary：
【課題】処理流体の圧力損失を低減でき、また、高効率で処理流体内の微粒子状不純物を取り除くことのできる誘電性構造体を提供する。【解決手段】 誘電性構造体1は、第1表面S1と第2表面S2との間に少なくとも1つの貫通孔3を有する誘電体と、誘電体における第1表面S1と第2表面S1との間に設けられ、少なくとも一部が貫通孔3の内周面に沿って位置する第1導電体4と、第2表面S2上に設けられ、外縁部が該第2表面S2上に位置するとともに少なくとも一部が貫通孔3の開口に沿って位置する第2導電体6とを有する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
第1表面と第2表面との間に少なくとも1つの貫通孔を有する誘電体と、 前記誘電体における前記第1表面と前記第2表面との間に設けられ、少なくとも一部が前記貫通孔の内周面に沿って位置する第1導電体と、 前記第2表面上に設けられ、外縁部が該第2表面上に位置するとともに少なくとも一部が前記貫通孔の開口に沿って位置する第2導電体と を有する誘電性構造体。
IPC (3)：
H05H 1/24 ,  B01J 19/08 ,  F01N 3/08
FI (3)：
H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  F01N3/08 C
F-Term (21)：
3G091AA18 ,  3G091AB14 ,  3G091BA14 ,  3G091BA16 ,  3G091CA08 ,  3G091DC03 ,  3G091EA15 ,  4G075AA03 ,  4G075AA22 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075CA47 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075FA01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (7)
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