Pat
J-GLOBAL ID:201003028063607124
目的細胞の取得方法および解析方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (21):
鈴江 武彦
, 蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 風間 鉄也
, 勝村 紘
, 河井 将次
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008184739
Publication number (International publication number):2010022227
Application date: Jul. 16, 2008
Publication date: Feb. 04, 2010
Summary:
【課題】目的細胞を回収用の容器に移し変えることなく、目的細胞以外の細胞を正確かつ迅速に基板上から排除し、目的細胞のみを基板上に確実に残すことができる、目的細胞の取得方法を提供すること。【解決手段】細胞培養液を保持する親水性領域と、該親水性領域の周縁部を包囲し、細胞培養液の拡散を防止する撥水性領域とを備えた基板上において、細胞を培養液中で培養し、細胞を基板上に接着させる第一の工程と、基板上の細胞を観察し、目的細胞以外の細胞を基板上から排除し、これにより目的細胞のみを基板上に残す第二の工程とを含む目的細胞の取得方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
細胞培養液を保持する親水性領域と、該親水性領域の周縁部を包囲し、細胞培養液の拡散を防止する撥水性領域とを備えた基板上において、細胞を培養液中で培養し、細胞を基板上に接着させる第一の工程と、
基板上の細胞を観察し、目的細胞以外の細胞を基板上から排除し、これにより目的細胞のみを基板上に残す第二の工程と
を含む目的細胞の取得方法。
IPC (5):
C12N 5/07
, C12Q 1/02
, C12N 15/09
, C12M 1/00
, C12Q 1/68
FI (5):
C12N5/00 E
, C12Q1/02
, C12N15/00 A
, C12M1/00 A
, C12Q1/68 A
F-Term (32):
4B024AA11
, 4B024CA01
, 4B024CA11
, 4B024HA14
, 4B029AA08
, 4B029AA16
, 4B029AA21
, 4B029AA23
, 4B029AA25
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029CC08
, 4B029FA15
, 4B063QA18
, 4B063QQ08
, 4B063QQ42
, 4B063QQ52
, 4B063QR08
, 4B063QR32
, 4B063QR56
, 4B063QR62
, 4B063QR69
, 4B063QR77
, 4B063QR84
, 4B063QS20
, 4B063QS24
, 4B063QS25
, 4B063QS34
, 4B063QX02
, 4B065AA90X
, 4B065BA21
, 4B065CA46
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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レーザーマイクロジセクション方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-265864
Applicant:ライカマイクロシステムスヴェツラーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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特許第3311757号公報
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