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J-GLOBAL ID:201003034805275179

酸化チタン系光触媒薄膜の製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩見谷 周志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008159324
Publication number (International publication number):2010000412
Application date: Jun. 18, 2008
Publication date: Jan. 07, 2010
Summary:
【課題】触媒活性が高く、透明性、基材への密着性および均一性が充分であり、特に可視光応答性に優れる酸化チタン系光触媒薄膜を製造する方法を提供する。【解決手段】(A)ペルオキソチタンを含有する酸化チタンと、(B)バナジウム族元素、クロム族元素、マンガン、鉄族元素、銅、亜鉛、ガリウム、ケイ素、ジルコニウム、銀および白金からなる群より選択される少なくとも1種の金属元素の酸化物の微粒子;前記群より選択される少なくとも2種の金属元素同士の固溶体の微粒子;ならびに前記群より選択される少なくとも2種の金属元素の酸化物同士の固溶体の微粒子、からなる群より選択される少なくとも1種の金属元素含有微粒子と、を含む酸化チタン系光触媒薄膜を基材上に形成させることを特徴とする酸化チタン系光触媒薄膜の製造法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
(A)ペルオキソチタンを含有する酸化チタンと、 (B)バナジウム族元素、クロム族元素、マンガン、鉄族元素、銅、亜鉛、ガリウム、ケイ素、ジルコニウム、銀および白金からなる群より選択される少なくとも1種の金属元素の酸化物の微粒子;前記群より選択される少なくとも2種の金属元素同士の固溶体の微粒子;ならびに前記群より選択される少なくとも2種の金属元素の酸化物同士の固溶体の微粒子、からなる群より選択される少なくとも1種の金属元素含有微粒子と を含む酸化チタン系光触媒薄膜を基材上に形成させることを特徴とする酸化チタン系光触媒薄膜の製造法。
IPC (3):
B01J 35/02 ,  B01J 23/06 ,  B01J 21/06
FI (3):
B01J35/02 J ,  B01J23/06 M ,  B01J21/06 M
F-Term (37):
4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA48A ,  4G169BC17A ,  4G169BC17B ,  4G169BC31A ,  4G169BC32A ,  4G169BC35A ,  4G169BC35B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC54A ,  4G169BC58A ,  4G169BC62A ,  4G169BC66A ,  4G169BC72A ,  4G169BD05A ,  4G169CA10 ,  4G169CA15 ,  4G169DA05 ,  4G169EA08 ,  4G169EB15Y ,  4G169EB18Y ,  4G169FB23 ,  4G169FB58 ,  4G169FC07 ,  4G169HA02 ,  4G169HB02 ,  4G169HC02 ,  4G169HC03 ,  4G169HC21 ,  4G169HC29 ,  4G169HC35 ,  4G169HD05 ,  4G169HD10 ,  4G169HE06 ,  4G169HE12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (8)
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