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J-GLOBAL ID:201003036401338455

眼科用光医学における線量測定を求めるためのシステム及び方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2009535367
Publication number (International publication number):2010508120
Application date: Nov. 13, 2007
Publication date: Mar. 18, 2010
Summary:
眼部標的組織を治療するためのシステム及び方法は、光ビームを生成するための光源と、パターンを生成するためのスキャナを含むビーム送出システムと、眼部標的組織上に光ビームの線量測定パターンを作り出す、光源及び送出システムを制御するためのコントローラとを含む。光ビームの1つ又はそれ以上の線量パラメータは、線量測定パターン内で変化し、標的組織上に異なる照射を作り出す。視覚化装置は、線量測定パターンによって眼部標的組織上に形成された損傷を観察する。コントローラは、自動的に又はユーザ入力に応答してのいずれかで、線量測定パターンからもたらされる損傷に基づいて、治療ビームのための線量パラメータを選択し、線量測定パターンの損傷によって判断された損傷の特徴を選択することにより、望ましい臨床効果を達成する。
Claim (excerpt):
眼部標的組織を治療するためのシステムであって、 光ビームを生成するための光源と、 前記光ビームを偏向させるためのスキャナ・ユニットを含む、該光ビームを眼部標的組織に送出するためのビーム送出ユニットと、 前記光源及び前記ビーム送出ユニットの少なくとも1つを、前記眼部標的組織上に前記光ビームの線量測定パターンを作り出すように制御するためのコントローラ を含み、前記光ビームの少なくとも1つの線量パラメータは前記線量測定パターン内で変化し、 前記線量測定パターンによって前記眼部標的組織上に形成された損傷の画像を捕捉するための視覚化装置と、 を含み、 前記コントローラは、前記光源及び前記ビーム送出ユニットの少なくとも1つを制御し、次いで、前記捕捉された損傷の画像に応答して選択された少なくとも1つの線量パラメータを有する前記眼部標的組織に該光ビームを送出するように構成されることを特徴とするシステム。
IPC (3):
A61F 9/007 ,  H01S 3/00 ,  A61B 18/20
FI (4):
A61F9/00 511 ,  H01S3/00 A ,  A61F9/00 512 ,  A61B17/36 350
F-Term (12):
4C026AA02 ,  4C026AA03 ,  4C026BB06 ,  4C026FF03 ,  4C026FF17 ,  4C026FF33 ,  4C026FF34 ,  4C026GG03 ,  4C026GG06 ,  4C026HH02 ,  4C026HH15 ,  5F172ZZ03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • レーザーの操作方法
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願2006-517960   Applicant:メディツィーニッシュスレーザーツェントルムルーベック

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