偏光素子、及びその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松浦憲三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008243153
Publication number (International publication number)：2010072591
Application date： Sep. 22, 2008
Publication date： Apr. 02, 2010
Summary：

【課題】耐熱性が高く、反射率が抑制され、かつ偏光度が高い偏光素子、及びその製造方法を提供する。【解決手段】偏光素子10は、光透過性を有する基板1と、基板1上に、幅、高さ、ピッチが所定の波長以下となるように配置された、複数のストライプ状の積層体4を有している。積層体4は、光入射側から上下方向に順に形成された光吸収部材3と光反射部材2を備えている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

光透過性を有する基板と、前記基板上に、幅、高さ、ピッチが所定の波長以下となるように配置された、複数のストライプ状の積層体を有し、該積層体が、光入射側から上下方向に順に形成された光吸収部材と光反射部材を備えたことを特徴とする偏光素子。

IPC (2)：

G02B 5/30 , G02F 1/133

FI (2)：

G02B5/30 , G02F1/1335 510

F-Term (26)：

2H149AB01 , 2H149AB05 , 2H149AB13 , 2H149AB26 , 2H149BA03 , 2H149BA23 , 2H149BB28 , 2H149FA41W , 2H149FA42Z , 2H149FC01 , 2H149FC07 , 2H149FD03 , 2H149FD47 , 2H191FA28X , 2H191FA28Z , 2H191FB02 , 2H191FB14 , 2H191FC10 , 2H191FC24 , 2H191FC38 , 2H191FD04 , 2H191FD07 , 2H191LA03 , 2H191LA04 , 2H191LA22 , 2H191MA11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

偏光分離素子およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-178415 Applicant：チェイルインダストリーズインコーポレイテッド
偏光素子及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-184083 Applicant：ソニー株式会社
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