プラズマ処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：有吉修一朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008197515
Publication number (International publication number)：2010029830
Application date： Jul. 31, 2008
Publication date： Feb. 12, 2010
Summary：

【課題】本発明は、少量から大量の粉体を均一に大気圧グロープラズマ処理して、その表面に有用な官能基を付与するプラズマ処理装置を提供することを目的とするものである。【解決手段】本発明は、中心電極2と、中心電極2と所定の空隙部5を介して配置された筒状の周辺電極3とを有する放電容器1と、中心電極2表面若しくは周辺電極3表面の少なくとも一方に設けられた誘電体4と、放電容器1の一端側に設けられ、空隙部5に流体を注入可能に構成された流体注入手段と、放電容器1の他端側に設けられ、空隙部5から流体を排出可能に構成された流体排出手段と、中心電極2と周辺電極3との間に交流またはパルス電圧を印加した状態で、中心電極を回転中心として放電容器を回転せしめる回転手段とを備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

中心電極と、該中心電極と所定の空隙部を介して配置された筒状の周辺電極とを有する放電容器と、前記中心電極表面若しくは前記周辺電極表面の少なくとも一方に設けられた誘電体と、前記放電容器の一端側に設けられ、前記空隙部に流体を注入可能に構成された流体注入手段と、前記放電容器の他端側に設けられ、前記空隙部から流体を排出可能に構成された流体排出手段と、前記中心電極と前記周辺電極との間に交流またはパルス電圧を印加した状態で、前記中心電極を回転の中心として前記放電容器を回転せしめる回転手段とを備えるプラズマ処理装置。

IPC (2)：

B01J 19/08 , H05H 1/24

FI (2)：

B01J19/08 K , H05H1/24

F-Term (15)：

4G075AA27 , 4G075BA05 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EB41 , 4G075EC09 , 4G075EC21 , 4G075ED01 , 4G075FA08 , 4G075FB01 , 4G075FB04 , 4G075FB06 , 4G075FB12 , 4G075FC15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

特公平7-68382号公報

Cited by examiner (9)

粉体のプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-163071 Applicant：イーシー化学株式会社, 伊藤忠ファインケミカル株式会社
プラズマで補助する気体反応器
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-520928 Applicant：アクセンタスパブリックリミテッドカンパニー
誘電体バリア放電を利用したプラズマ表面処理
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2009-522066 Applicant：テクナ・プラズマ・システムズ・インコーポレーテッド

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