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J-GLOBAL ID：201003045122990338

制御性T細胞の製造方法

Inventor： 中江 進 ,  大保木 啓介 ,  大野 建州 ,  山田 倫子 ,  梶原 直樹 ,  斎藤 博久
Applicant, Patent owner： 財団法人ヒューマンサイエンス振興財団
Agent (1)： 一色国際特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008171464
Publication number (International publication number)：2010004853
Application date： Jun. 30, 2008
Publication date： Jan. 14, 2010
Summary：

【課題】制御性T細胞の製造方法、およびその方法により製造された制御性T細胞、さらにその制御性T細胞を含む医薬を提供すること。【解決手段】インターロイキン33の存在下でCD4+ナイーブT細胞とマスト細胞をin vitro共培養し、CD4+ナイーブT細胞から制御性T細胞を分化誘導することにより、制御性T細胞を製造する。当該方法によって製造された制御性T細胞は免疫応答の全体バランスを正常かつ安定に保持させることにより、アレルギー性疾患やリウマチ等に代表される免疫システムの過剰反応に由来する疾患や臓器移植片拒絶反応の発症を抑制する免疫抑制剤として有用である。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

制御性T細胞の製造方法であって、 インターロイキン33の存在下で、CD4+ナイーブT細胞とマスト細胞をin vitro共培養することを特徴とする方法。

IPC (5)：

C12N 5/07 ,  A61K 35/14 ,  A61P 37/06 ,  A61P 37/08 ,  A61P 29/00

FI (5)：

C12N5/00 E ,  A61K35/14 Z ,  A61P37/06 ,  A61P37/08 ,  A61P29/00

F-Term (14)：

4B065AA94 ,  4B065AC20 ,  4B065BB19 ,  4B065BB34 ,  4B065BC50 ,  4B065CA44 ,  4C087AA01 ,  4C087AA02 ,  4C087AA03 ,  4C087BB37 ,  4C087ZB02 ,  4C087ZB08 ,  4C087ZB11 ,  4C087ZB13

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 変調回路
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-280307   Applicant：NECエレクトロニクス株式会社

Cited by examiner (1)

• ヘアセット剤およびヘアセット剤の使用方法。
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-127365   Applicant：Re&Do株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• International Journal of Immunopathology and Pharmacology, 2008.01-03, Vol.21, No.1, p.1-4
• International Immunology, 2008.04(online), Vol.20, No.6, p.791-800
• 日本免疫学会総会・学術集会記録, 2008.11, Vol.38, p.41
• 臨床免疫・アレルギー科, 2009, Vol.52, No.1, p.93-99