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J-GLOBAL ID：201003047672531384
粒子線治療装置
Inventor：
,
,
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
春日 讓
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009068033
Publication number (International publication number)：2010220647
Application date： Mar. 19, 2009
Publication date： Oct. 07, 2010
Summary：
【課題】本発明の目的は、ガントリー回転によるSOBPの一様度悪化を抑制できる粒子線治療装置を提供することにある。【解決手段】荷電粒子ビーム発生装置2から出射された荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射野形成装置13は、RMW装置20を備える。RMW装置20のRMW21は、荷電粒子ビーム進行方向に対して直交する平面内を移動可能である。ガントリー角度が変わりRMW21へのビーム入射形状が変わったときには、テーブル25をビーム進行方向と直交する平面内で制御機構により移動させ、RMW21のビーム入射位置を変え、RMW21へのビーム入射形状が変わらないようにする。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
荷電粒子ビームを発生する荷電粒子ビーム発生装置と、
前記荷電粒子ビーム発生装置から出射された荷電粒子ビームを患部に照射する荷電粒子ビーム照射装置とを有し、
前記荷電粒子ビーム照射装置は、前記荷電粒子ビームが通過する回転可能なレンジモジュレーションホイールを備えるレンジモジュレーションホイール回転装置を有する粒子線治療装置であって、
前記レンジモジュレーションホイールは、荷電粒子ビーム進行方向に対して直交する平面内を移動可能であることを特徴とする粒子線治療装置。
IPC (2)：
FI (5)：
A61N5/10 H
, A61N5/10 N
, G21K3/00 Y
, G21K3/00 Z
, G21K3/00 W
4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE03
, 4C082AG02
, 4C082AG42
, 4C082AG53
, 4C082AL07
, 4C082AP13
, 4C082AR07
