粒子線照射装置及び照射野形成装置の調整方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：作田康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003167243
Publication number (International publication number)：2004069683
Application date： Jun. 12, 2003
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：

【課題】患部内における放射線量分布をより均一化する。【解決手段】粒子線治療装置1は、荷電粒子ビーム発生装置2及び照射野形成装置15を備える。荷電粒子ビーム発生装置2からのイオンビームは照射野形成装置15より患部62に照射される。第1及び第2走査電磁石17,18の下流側で、照射野形成装置15に設置された散乱体装置19及び飛程調整装置20は一体化されて、またブラッグピーク拡大装置21は単独で、ビーム軸14に沿って移動される。散乱体装置19の移動はイオンビームの散乱度合いを調整し、飛程調整装置20の移動は吸収体の厚み調整に応じたその散乱度合いの変化を調整し、ブラッグピーク拡大装置21の移動によってSOBP装置21に対応して生じるその散乱度合いの変化を調整する。これらの調整により、患部内における放射線量分布が均一化される。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビーム発生装置と、前記荷電粒子ビーム発生装置から出射された荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射野形成装置とを備え、前記照射野形成装置は、前記荷電粒子ビームのサイズを拡大する散乱体装置、及び前記荷電粒子ビームが通過するブラッグピーク拡大装置を有し、前記散乱体装置及び前記ブラッグピーク拡大装置のうちの少なくとも1つが、前記荷電粒子ビームの進行方向において移動可能に前記照射野形成装置に設置されていることを特徴とする粒子線照射装置。

IPC (4)：

G21K5/04 , A61N5/10 , G21K1/10 , G21K3/00

FI (6)：

G21K5/04 A , A61N5/10 H , A61N5/10 J , G21K1/10 S , G21K3/00 S , G21K3/00 Y

F-Term (9)：

4C082AA01 , 4C082AC05 , 4C082AE01 , 4C082AG12 , 4C082AG33 , 4C082AG34 , 4C082AG35 , 4C082AG42 , 4C082AN02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

粒子線照射方法及び粒子線照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-026564 Applicant：株式会社東芝
特公平6-096048
照射野の形成方法及び形成装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-186108 Applicant：三菱電機株式会社

Cited by examiner (4)

粒子線照射方法及び粒子線照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-026564 Applicant：株式会社東芝
特公平6-096048
特公平6-096048

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