Pat
J-GLOBAL ID:201003064062317226

回転機

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  酒井 將行 ,  荒川 伸夫 ,  佐々木 眞人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009098305
Publication number (International publication number):2010252491
Application date: Apr. 14, 2009
Publication date: Nov. 04, 2010
Summary:
【課題】超電導コイルの冷却のばらつきを抑制し、十分に冷却する回転機を提供する。【解決手段】回転機は、スロット130内に超電導コイル111が配置された回転機であって、容器131と、超電導コイル111と、支持部132とを備えている。容器131は、スロット130内に配置されている。超電導コイル111は、容器131の内部に配置されている。支持部132は、超電導コイル111を支えている。支持部132は、冷媒133を流すための孔132aを有する。【選択図】図4
Claim (excerpt):
スロット内に超電導コイルが配置された回転機であって、 スロット内に配置された容器と、 前記容器の内部に配置された超電導コイルと、 前記超電導コイルを支える支持部とを備え、 前記支持部は、冷媒を流すための孔を有する、回転機。
IPC (2):
H02K 55/04 ,  H02K 3/24
FI (2):
H02K55/04 ,  H02K3/24 C
F-Term (24):
5H603AA13 ,  5H603BB01 ,  5H603BB02 ,  5H603BB05 ,  5H603BB12 ,  5H603CA01 ,  5H603CA05 ,  5H603CB02 ,  5H603CC05 ,  5H603CC07 ,  5H603CC17 ,  5H603CD01 ,  5H603CE16 ,  5H655AA19 ,  5H655BB01 ,  5H655BB02 ,  5H655BB04 ,  5H655BB09 ,  5H655CC14 ,  5H655DD04 ,  5H655DD13 ,  5H655DD20 ,  5H655EE19 ,  5H655HH18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page