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J-GLOBAL ID：201003066901224100

水素製造装置

Inventor：
岡部 昌規

About 岡部 昌規

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中沢 孝治

About 中沢 孝治

, 
樽家 憲司

About 樽家 憲司


Applicant, Patent owner：
本田技研工業株式会社

About 本田技研工業株式会社


Agent (1)： 特許業務法人創成国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010179825
Publication number (International publication number)：2010248635
Application date： Aug. 10, 2010
Publication date： Nov. 04, 2010
Summary：
【課題】カソード側が高圧になってもアノード給電体の変形を防止できる水素製造装置を提供する。【解決手段】固体高分子膜2の両側に設けられた給電体3,4と、セパレータ5,6とを備える。カソード側で生成した水素ガスにより、固体高分子膜2とアノード側給電体4とがアノード側セパレータ6方向に押圧される。アノード側セパレータ6は、水素ガスの圧力に抗して形状を維持できる材料からなり、流体通路領域19bとフレーム領域20bとを備える。アノード給電体4は流体通路領域19bに対向する多孔質部材16と、多孔質部材16と対等の厚さを有し、フレーム領域20bに対向する非多孔質部材17とからなる。カソード給電体3は、カソード側セパレータ5の流体通路領域19aに対向する多孔質部材のみからなる。【選択図】 図3
Claim (excerpt)：
固体高分子膜と、該固体高分子膜のカソード側、アノード側両側に相対向して設けられた1対の給電体と、各給電体に積層されたセパレータと、各セパレータに設けられ各給電体が露出する流体通路とを備え、アノード側セパレータの流体通路に水を供給すると共に各給電体に通電することにより、アノード側セパレータの流体通路に供給された水を電気分解し、カソード側セパレータの流体通路に高圧の水素ガスを得て、カソード側セパレータの流体通路で得た水素ガスの圧力により、固体高分子膜とアノード給電体とがアノード側セパレータ方向に押圧される水素製造装置において、 該アノード側セパレータは、カソード側セパレータの流体通路に得られる水素ガスの圧力に抗して形状を維持できる材料からなり、該流体通路が設けられている流体通路領域と、該流体通路領域の外周側に設けられたフレーム領域とを備え、 アノード給電体は該固体高分子膜と該アノード側セパレータとに密着して配設されており、導電性粒子が焼結されてなり該流体通路領域に対向する領域を占める多孔質部材と、該多孔質部材と対等の厚さを有し、該フレーム領域に対向する領域を占めて該多孔質部材を取り囲み該多孔質部材の厚さと直交する方向への変形を規制する非多孔質部材とからなり、 カソード給電体は、カソード側流体通路が設けられている流体通路領域に対向する領域を占める多孔質部材のみからなることを特徴とする水素製造装置。
IPC (4)：
C25B 9/04 ,  C25B 1/12 ,  C25B 11/03 ,  C25B 9/00
FI (4)：
C25B9/04 302 ,  C25B1/12 ,  C25B11/03 ,  C25B9/00 B
F-Term (14)：
4K011AA11 ,  4K011AA21 ,  4K011DA01 ,  4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021CA05 ,  4K021DB05 ,  4K021DB10 ,  4K021DB11 ,  4K021DB18 ,  4K021DB31 ,  4K021DB49 ,  4K021DB50 ,  4K021DC03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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